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凈化技術(shù)設(shè)備發(fā)展和應(yīng)用趨勢(shì)

發(fā)布:盛之源凈化設(shè)備         閱讀:1253         日期:2023-09-23

凈化技術(shù)設(shè)備發(fā)展和應(yīng)用趨勢(shì)文章概要:潔凈技術(shù)又稱為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù),是近二、三十年來隨著技術(shù)發(fā)展起來的一門綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)專門研究并提供潔凈的生產(chǎn)工藝環(huán)境和生產(chǎn)過程中使用的各種高純介質(zhì),有效地控制微量雜質(zhì),以保障高科技產(chǎn)品的成品率。潔凈技術(shù)通常包括:空氣凈化技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜質(zhì)控制···

凈化技術(shù)設(shè)備發(fā)展和應(yīng)用趨勢(shì)

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潔凈技術(shù)又稱為生產(chǎn)環(huán)境和污染控制技術(shù),是近二、三十年來隨著技術(shù)發(fā)展起來的一門綜合性的新興科學(xué)技術(shù)。潔凈技術(shù)專門研究并提供潔凈的生產(chǎn)工藝環(huán)境和生產(chǎn)過程中使用的各種高純介質(zhì),有效地控制微量雜質(zhì),以保障高科技產(chǎn)品的成品率。潔凈技術(shù)通常包括:空氣凈化技術(shù)、空調(diào)技術(shù)、水純化技術(shù)、氣體純化技術(shù)、微量雜質(zhì)控制技術(shù)、潔凈環(huán)境的監(jiān)測(cè)技術(shù)及的環(huán)境質(zhì)量的控制技術(shù)。凈化工程技術(shù)在電子、核子、航空航天、生物工程、制藥、*密機(jī)械、化工、食品、汽車制造等高科技工業(yè)領(lǐng)域及現(xiàn)代科學(xué)領(lǐng)域中得到廣應(yīng)用。

對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備來講,凈化工程技術(shù)在微電子技術(shù)中起著**重要的作用。微電子技術(shù)的核心是集成電路,而集成電路的生產(chǎn)對(duì)其工藝環(huán)境和工藝流程中的凈化技術(shù)和設(shè)備提出了嚴(yán)格的要求。我國(guó)“九五”期間大力發(fā)展以微電子為重點(diǎn)的信息產(chǎn)業(yè)。凈化工程技術(shù)水平在某種意義上已成為衡量一個(gè)**和地區(qū)科學(xué)技術(shù)水平和工業(yè)水平的一個(gè)重要標(biāo)志。

隨著我國(guó)人民生活水平提高,人們對(duì)生存環(huán)境及生活質(zhì)量提出了越來越高要求,用水純化設(shè)備制備的高純水已受到人們普遍歡迎,凈化工程技術(shù)已開始進(jìn)入千家萬戶,進(jìn)入人們的現(xiàn)代生活。

我國(guó)的潔凈技術(shù)和設(shè)備與國(guó)外****相比差距是明顯的,我國(guó)1965年才開始生產(chǎn)的HEPA過濾器,比國(guó)外晚了十五年。1975年開始生產(chǎn)的光散射塵埃粒子計(jì)數(shù)器比國(guó)外晚了二十年。0.1微米潔凈技術(shù)和設(shè)備在**上****已成為成熟技術(shù),我國(guó)則剛剛起步。

**各工業(yè)****為適應(yīng)超凈技術(shù)的發(fā)展,對(duì)大量使用的高效過濾器的研究從未中斷,幾年來一直在開發(fā)不同結(jié)構(gòu)不同性能的新產(chǎn)品,美國(guó)自1979年開始研制0.1微米ULPA過濾器,1984年美國(guó)AAF公司開始生產(chǎn)0.1微米無隔板ULPA過濾器,目前0.1微米ULPA過濾器在美國(guó)AAF公司、FLANDERS公司和CAMBRIDGE公司已形成商品化生產(chǎn)。日本也已成為**上生產(chǎn)0.1微米ULPA過濾器廠家**多的**,品種繁多,產(chǎn)品系列化,尤其是低壓損型0.1微米ULPA過濾器的開發(fā)成功解決了初阻力大的技術(shù)難題。**市場(chǎng)對(duì)空氣過濾器的需求量很大,且每年均有增長(zhǎng),目前日本每年銷售超過100萬臺(tái),按每臺(tái)平均價(jià)格200美元計(jì)算,銷售額達(dá)2億美元。我國(guó)空氣過濾器市場(chǎng)需求量已接近每年10萬臺(tái),占**市場(chǎng)的2%~4%,但至今還沒有0.1微米ULPA過濾器生產(chǎn),用于超大規(guī)模集成電路生產(chǎn)潔凈廠房及各種高科技領(lǐng)域潔凈廠房的0.1微米ULPA過濾器目前還要依賴*。

在潔凈室建設(shè)規(guī)模和技術(shù)水平上,我國(guó)與****差距更大。日本清水建設(shè)公司一家,1982年到1987年期間承建的潔凈室面積達(dá)71.8萬平方米,而我國(guó)目前一年承建的潔凈室總面積還不到10萬平方米,但八五期間有較大發(fā)展,1993年承建潔凈室總面積已接近15萬平方米。美國(guó)的潔凈室建設(shè)規(guī)模更大,1998年統(tǒng)計(jì)已達(dá)188.5萬平方米。在潔凈工程技術(shù)水平上,80年代末期,國(guó)外已大量建成0.1微米級(jí)的超凈室,1987年日本三洋新瀉工場(chǎng)建成十級(jí)潔凈廠房3000平方米,NIT原木則建成了四個(gè)1000平方米控制0.1微米塵埃的千級(jí)廠房,換氣次數(shù)高達(dá)300次/分。美國(guó)在臺(tái)灣的TSMCS新廠已建成第四代管道式潔凈室總面積達(dá)10000平方米。我國(guó)使用的0,1微米十級(jí)潔凈室主要依賴從國(guó)外*。由于高潔凈**的潔凈室造價(jià)**昂貴,0.1微米十級(jí)潔凈室每平方米造價(jià)高達(dá)1萬美元以上。在大規(guī)模集成電路制造裝備的投資中潔凈廠房占有相當(dāng)高的比例,這與集成電路工藝不斷更新,產(chǎn)品更新?lián)Q代周期越來越快的發(fā)展趨勢(shì)不相適應(yīng),嚴(yán)重制約了大規(guī)模集成電路技術(shù)的發(fā)展。美國(guó)ASYST公司、德國(guó)MW公司發(fā)展的使用隔離技術(shù)的亞微米生產(chǎn)微環(huán)境系統(tǒng)設(shè)備和技術(shù)在近幾年中得到廣采用。

潔凈技術(shù)和裝備的**市場(chǎng)****,日本到80年代末、90年代初潔凈技術(shù)和設(shè)備的銷售額已突破35億美元。美國(guó)和西歐等****潔凈設(shè)備和基礎(chǔ)部件的銷售額已達(dá)73億美元。據(jù)中國(guó)電子專用設(shè)備工業(yè)協(xié)會(huì)統(tǒng)計(jì),我國(guó)主要八家**大的凈化設(shè)備廠的銷售額1990年為8217萬元,還不足1億,1993年達(dá)到14495萬元,占**市場(chǎng)銷售額的0.34%。但隨著我國(guó)技術(shù)的迅速發(fā)展和微電子工業(yè)、光纖工業(yè)、液晶顯示工業(yè)及光電器件工業(yè)、生物工程、醫(yī)藥工業(yè)的發(fā)展,我國(guó)潛在的**的潔凈技術(shù)產(chǎn)品市場(chǎng),以每年40%~50%的增長(zhǎng)速度在增加。

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